无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是绝对均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响最小化。
　　在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化最小化等方面。
　　现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。
设备好坏是否决定着电镀涂层质量？
　　设备好坏是否决定着电镀涂层质量？镀膜机是按照一定工艺要求把有关的控制装置、电镀槽、镀件室、真空环境、过滤设备、电源设备、检测仪器、加热冷却装置等部件组合在一起为实现整个工艺流程的过程，通过好的设备可以提高产品镀膜的生产效率以及质量。
　　
　　真空电镀生产中使用生产原材料加酸、碱腐蚀性物质很多，设备长时间在这种工作环境中运行会无法避免线路受到腐蚀，润滑下降等问题，久而久之设备的稳定性下降，当达到一定程度电镀膜受到影响甚至设备停止工作。
　　
　　好设备更耐用且更稳定：电镀设备适用于金属、木材、水泥、塑料、陶瓷、树脂、陶瓷、亚克力、磷镁等各种材料，可广泛应用于电器、玩具、手机、汽车、电脑、工艺品、饰品、家具等装饰行业，工具等硬质涂层行业等等。
　　
　　好的成版人直播app破解版污播电镀质量会更加高，对于同种工艺，镀制相同的膜层使用时间要更加短，在符合材料形成的涂层结合更牢固、光亮、均匀、致密、连续，大大降低成本。